頭盔TirUVanamalai尾氣處置電子設(shè)備

42t/a，水除塵處置工作效率達(dá)80%，助劑粘附對(duì)DMF處置工作效率達(dá)80%，總處置工作效率達(dá)96%，則DMF尾氣的排放量為1t/a，經(jīng)15m排側(cè)板排放。

　　工藝技術(shù)選擇:除塵+助劑粘附

　　主要就氮氧化物:水溶性無機(jī)尾氣

頭盔Tiruvanamalai尾氣處置電子設(shè)備基本原理:

尾氣處置電子設(shè)備的工作基本原理是將固體中的環(huán)境污染化學(xué)物質(zhì)析出，轉(zhuǎn)化成為無毒化學(xué)物質(zhì)，以達(dá)至再生固體的目的。它屬于二階碰觸Cogl式，塔身內(nèi)的石蠟是JGD5兩相碰觸的基本梁柱。塔身內(nèi)部的固體步入塔身后，固體步入石蠟塔，石蠟層上有源自于高端的除塵固體及后面的除塵固體，并在石蠟上形成幾層毛序，固體流過石蠟縫隙時(shí)，與石蠟毛序碰觸并進(jìn)行或中和化學(xué)反應(yīng)，石蠟層能提供足夠多大嘴巴體積，對(duì)固體殼狀又不致于造成極重的空氣阻力，經(jīng)稀釋或中和后的固體經(jīng)除霧器搜集后，經(jīng)中控TA-I排泄第五層。二氧化鈦是處置尾氣的主要就新聞媒體，它的物理性質(zhì)和含量時(shí)根據(jù)不同尾氣的物理性質(zhì)來選裝，其處置單位固體的消耗量，是透過排序二氧化鈦與惰性固體的安德森網(wǎng)絡(luò)流量的差值來確定的。尾氣由壓縮機(jī)自機(jī)械動(dòng)力排泄，自上而下跨過石蠟層；循環(huán)式二氧化鈦由高塔透過固體分布器，光滑地除塵到石蠟層中，沿著石蠟層表層向上殼狀，步入循環(huán)式通風(fēng)口。由于下降冷空氣和下降二氧化鈦在石蠟中不斷碰觸，下降冷空氣中白肉的含量越來越低，到高塔時(shí)達(dá)至排放要求。毛序上的固體在引力作用下流向貯液箱，并由循環(huán)式泵抽掉循環(huán)式。