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光氧催化劑尾氣處置電子設備本產(chǎn)品借助托盤的高能量高一水解碳UV紫外光雷射散射臭味液體,改變臭味液體如:氨、過氧化氫、一氧化碳、甲硫氫、甲吡啶、甲吡啶、三甲二硫、乙醚和丙烯,氯化物H2S、VOC類,苯、硝基、三甲苯的核酸鏈結構,使無機或無機高核酸臭味氧化物核酸鏈,在高能量紫外光雷射散射下,降解轉變成低核酸氧化物,如CO2、H2O等。

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光氧催化劑尾氣處置電子設備本產(chǎn)品借助托盤的高能量高一水解UV紫外光雷射散射臭味液體,改變臭味液體如:氨、過氧化氫、一氧化碳、甲硫氫、甲吡啶、甲吡啶、三甲二硫、乙醚和丙烯,氯化物H2S、VOC類,苯、硝基、三甲苯的核酸鏈結構,使無機或無機高核酸臭味氧化物核酸鏈,在高能量紫外光雷射散射下,降解轉變成低核酸氧化物,如CO2、H2O等。加惡臭、和本公司控制技術“二十六種催化劑薄膜控制技術”進行尾氣再度降解和催化劑。借助高能量高臭氧UV紫外光雷射降解水蒸氣中的氯離子造成浸潤氧,即一水解氮,因浸潤氧發(fā)高強子不平衡所以需與氯離子結合,進而造成一水解碳。 UV+O2→O-+O*(一水解氮)O+O2→O3(一水解碳),一水解碳對無機物具有強的水解作用,對臭味液體及其它刺激性臭味有清除效用?!岸N催化劑薄膜控制技術”加強了-C頻段紫外光散射十倍;增加了-C頻段光段的散射,使-C波散射再度借助;次薄膜材料屬于膠體織物,在-C頻段紫外光的散射下慢慢蒸發(fā)催化劑劑進行尾氣再度催化劑。*除去尾氣中劇毒、劇毒、瑞維尼液體。

光氧催化劑尾氣處置電子設備控制技術原理

采用-C頻段單色光將尾氣中的劇毒劇毒的化學核酸鏈乙烯、腹?jié)M、水解、降解,將大核酸鏈降解成無污染無污染的小核酸,光與液體*沒有任何人間隙,音速比液體的速度高十倍,在光氧催化劑熱水器內-C段單色光能夠*將劇毒劇毒的無機尾氣*降解,液體中的大部分劇毒物質被降解、水解為二水解碳、水和礦物質,無第二次污染;除去臭味效用高。

控制技術特點:無毒無污染無任何人副作用,CA越了傳統(tǒng)的水蒸氣熱水器,能在有人在場的環(huán)境中持續(xù)滅菌;在乙烯時造成淡淡一水解碳加上強烈的紫外光能光譜地施用水蒸氣中的各類細菌,測試證明對海棲、篦齒、科散囊及自然菌施用率高,有效除去可吸收顆粒。

適用場合及應用對象

石油及天然氣的礦山、生物造紙廠、染料水泥廠、高爐、煉鋼廠、水尾子、面粉廠、金屬礦山、造紙廠、王永強、溶劑廠、啤酒廠、飼料紡織廠、城市污水處置廠等。

光氧催化廢氣處理設備uv光氧催化廢氣處理設備光氧催化廢氣處理設備環(huán)境污染生產(chǎn)廠家,型號齊全,價格合理,批發(fā)定做,圖片說明。

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