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半導(dǎo)體行業(yè)研究:設(shè)備G產(chǎn)化關(guān)鍵環(huán)節(jié),半導(dǎo)體零部件藍(lán)海啟航半導(dǎo)體設(shè)備G產(chǎn)化專題催化燃燒設(shè)備

半導(dǎo)體行業(yè)研究:設(shè)備G產(chǎn)化關(guān)鍵環(huán)節(jié),半導(dǎo)體零部件藍(lán)海啟航半導(dǎo)體設(shè)備G產(chǎn)化專題催化燃燒設(shè)備

半導(dǎo)體行業(yè)遵循“一代技術(shù)、一代工藝、一代設(shè)備”的產(chǎn)業(yè)規(guī) 律,而半導(dǎo)體設(shè)備的升級(jí)迭代很大程度上有賴于精密零部件的技術(shù)突破。半導(dǎo)體精密零部件不僅是半導(dǎo)體設(shè)備制造環(huán)節(jié)中難度較大、技術(shù)含量較高的環(huán)節(jié)之一,也 是G內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)“卡脖子”的環(huán)節(jié)之一。半導(dǎo)體零部件數(shù)量龐大、種類繁多,碎片化特征明顯。

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(報(bào)告出品方/作者:安信證券,馬良、郭旺)

1. 零部件是半導(dǎo)體設(shè)備的核心,品類眾多,技術(shù)壁壘高

1.1. 半導(dǎo)體零部件是決定半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展的關(guān)鍵領(lǐng)域

半導(dǎo)體零部件是半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的支撐:半導(dǎo)體設(shè)備是延續(xù)半導(dǎo)體行業(yè)“摩爾定律”的瓶 頸和關(guān)鍵,而半導(dǎo)體設(shè)備廠商絕大部分關(guān)鍵核心技術(shù)需要物化在精密零部件上,或以精密 零部件作為載體來(lái)實(shí)現(xiàn)。 半導(dǎo)體設(shè)備零部件在材料、結(jié)構(gòu)、工藝、品質(zhì)和精度、可靠性及穩(wěn)定性等性能方面達(dá)到了 半導(dǎo)體設(shè)備及技術(shù)要求,并具有高精密、高潔凈、CA強(qiáng)耐腐蝕能力、耐擊穿電壓等特性, 生產(chǎn)工藝涉及精密機(jī)械制造、工程材料、表面處理特種工藝、電子電機(jī)整合及工程設(shè)計(jì)等 多個(gè)領(lǐng)域和學(xué)科,是半導(dǎo)體設(shè)備核心技術(shù)的直接保障。

半導(dǎo)體設(shè)備結(jié)構(gòu)復(fù)雜,由成千上萬(wàn)個(gè)零部件組成,零部件的性能、質(zhì)量和精度都共同決定 著設(shè)備的可靠性與穩(wěn)定性。半導(dǎo)體行業(yè)遵循“一代技術(shù)、一代工藝、一代設(shè)備”的產(chǎn)業(yè)規(guī) 律,而半導(dǎo)體設(shè)備的升級(jí)迭代很大程度上有賴于精密零部件的技術(shù)突破。各種半導(dǎo)體零部 件相互配合,共同支持半導(dǎo)體設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn),比起其他行業(yè)設(shè)備的基礎(chǔ)零部件尖端技術(shù)特性 更為明顯,精度高、批量小、多品種、尺寸特殊、工藝復(fù)雜,還要兼顧強(qiáng)度、應(yīng)變、抗腐 蝕、電子特性、電磁特性、材料純度等復(fù)合功能要求。 半導(dǎo)體精密零部件不僅是半導(dǎo)體設(shè)備制造環(huán)節(jié)中難度較大、技術(shù)含量較高的環(huán)節(jié)之一,也 是G內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)“卡脖子”的環(huán)節(jié)之一。同樣一個(gè)部件,相較于傳統(tǒng)工業(yè),半導(dǎo)體設(shè)備 關(guān)鍵零部件在原材料的純度、原材料批次的一致性、質(zhì)量穩(wěn)定性、機(jī)加精度控制、棱邊倒 角去毛刺、表面粗糙度控制、特殊表面處理、潔凈清洗、真空無(wú)塵包裝、交貨周期等方面 要求就更高,造成了極高的技術(shù)門檻。以半導(dǎo)體用過(guò)濾件為例,目前半導(dǎo)體級(jí)別濾芯的精 度要求達(dá)到 1 納米甚至以下,而在其他行業(yè)精度則要求在微米級(jí)。同時(shí),為獲得CA純的產(chǎn) 品清潔度、高度一致的質(zhì)量和可重復(fù)高性能,半導(dǎo)體用過(guò)濾件對(duì)一致性、耐化學(xué)和耐熱性、 抗脫落性亦有較高的要求。

1.2. 半導(dǎo)體設(shè)備由多個(gè)子系統(tǒng)組成,零部件數(shù)量龐大、種類繁多

各類半導(dǎo)體設(shè)備都可以分解成若干個(gè)模塊,由多個(gè)子系統(tǒng)組成。根據(jù) VLSI 公司統(tǒng)計(jì)分類, 半導(dǎo)體設(shè)備由八大關(guān)鍵子系統(tǒng)組成:氣液流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、制程診斷系統(tǒng)、光學(xué) 系統(tǒng)、電源及氣體反應(yīng)系統(tǒng)、熱管理系統(tǒng)、晶圓傳送系統(tǒng)及其他關(guān)鍵組件。其中,真空系 統(tǒng)、電源系統(tǒng)是較為關(guān)鍵的子系統(tǒng),成本占比均在 10%以上。前者主要包括各類閥、泵, 后者則以射頻電源等為主。

半導(dǎo)體零部件數(shù)量龐大、種類繁多,碎片化特征明顯。按照業(yè)內(nèi)主流的零部件劃分方式, 半導(dǎo)體零部件可以劃分為機(jī)械類、電器類、機(jī)電一體類、氣體/液體/真空系統(tǒng)類、儀器儀表 類、光學(xué)類和其他零部件。 機(jī)械類:應(yīng)用于所有設(shè)備,起到構(gòu)建整體框架、基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)、晶圓反應(yīng)環(huán)境和實(shí)現(xiàn)零部 件特殊功能的作用,保證反應(yīng)良率,延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命,對(duì)加工精度、耐腐蝕性、密 封性、潔凈度、真空度等指標(biāo)有較高要求。 電器類:應(yīng)用于所有設(shè)備,起到控制電力、信號(hào)、工藝反應(yīng)制程的作用,對(duì)輸出功率 的穩(wěn)定性、電壓質(zhì)量、波形質(zhì)量、頻率質(zhì)量等指標(biāo)有較高要求。 機(jī)電一體類:在設(shè)備中起到實(shí)現(xiàn)晶圓裝載、傳輸、運(yùn)動(dòng)控制、溫度控制的作用,部分 產(chǎn)品包含機(jī)械類產(chǎn)品,對(duì)真空度、潔凈度、放氣率、 SEMI 定制標(biāo)準(zhǔn)等指標(biāo)有較高要 求,還需要保證多次使用后的一致性和穩(wěn)定性,不同具體產(chǎn)品要求差別較大。 氣體/液體/真空系統(tǒng)類:在設(shè)備中起到傳輸和控制特種氣體、液體和保持真空的作用。 其中,氣體輸送系統(tǒng)類對(duì)真空度、耐腐蝕性、潔凈度、SEMI 定制標(biāo)準(zhǔn)等指標(biāo)有較高要 求,真空系統(tǒng)類對(duì)抽氣后的真空指標(biāo)、可靠性、穩(wěn)定性、一致性等指標(biāo)有較高要求, 氣動(dòng)液壓系統(tǒng)類對(duì)真空度、表面粗糙度、潔凈度、使用壽命、耐液體腐蝕等指標(biāo)有較 高要求。 儀器儀表類:應(yīng)用于所有設(shè)備,起到控制和監(jiān)控流量、壓力、真空度、溫度等數(shù)值的 作用,對(duì)量程時(shí)間、流量測(cè)量精度、溫度測(cè)量精度、壓力測(cè)量精度、溫度影響小等指 標(biāo)有較高要求。 光學(xué)類:主要應(yīng)用于光刻設(shè)備、量測(cè)設(shè)備等,起到控制和傳輸光源的作用,對(duì)制造精 度、分辨率、曝光能力、光學(xué)誤差小等指標(biāo)有較高要求。

根據(jù)《半導(dǎo)體零部件產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀及發(fā)展》(發(fā)表在中G集成電路),半導(dǎo)體零部件還有按照典 型集成電路設(shè)備腔體內(nèi)部流程劃分、按照半導(dǎo)體零部件的主要材料和使用功能劃分和按照 半導(dǎo)體零部件服務(wù)對(duì)象劃分的分類方式。 按照典型集成電路設(shè)備腔體內(nèi)部流程劃分,零部件可以分為五大類:電源和射頻控制類、 氣體輸送類、真空控制類、溫度控制類、傳送裝置類。 按照半導(dǎo)體零部件的主要材料和使用功能劃分,可以將其分為十二大類,包括硅/碳化硅件、 石英件、陶瓷件、金屬件、石墨件、塑料件、真空件、密封件、過(guò)濾部件、運(yùn)動(dòng)部件、電 控部件以及其他部件。 按照半導(dǎo)體零部件服務(wù)對(duì)象來(lái)分,半導(dǎo)體核心零部件可以分為兩種,即精密機(jī)加件和通用 外購(gòu)件:精密機(jī)加件通常由半導(dǎo)體設(shè)備公司自行設(shè)計(jì)再委外加工,只用于自己公司的設(shè)備, 如工藝腔室、傳輸腔室等,一般對(duì)其表面處理、精密機(jī)加工等工藝技術(shù)的要求較高;通用 外購(gòu)件則是一些經(jīng)過(guò)長(zhǎng)時(shí)間驗(yàn)證,得到眾多設(shè)備廠和制造廠廣泛認(rèn)可的通用零部件,更加 標(biāo)準(zhǔn)化,會(huì)被不同的設(shè)備公司使用,也會(huì)被作為產(chǎn)線上的備件耗材來(lái)使用,例如硅結(jié)構(gòu)件、 O-Ring 密封圈、閥門、規(guī)(Gauge)、泵、Face plate、氣體噴淋頭 Shower head 等,由于 這類部件具備較強(qiáng)的通用性和一致性,并且需要得到設(shè)備、制造產(chǎn)線上的認(rèn)證。

1.3. 多學(xué)科交叉融合,復(fù)合型技術(shù)壁壘高

半導(dǎo)體零部件覆蓋范圍廣、產(chǎn)業(yè)鏈長(zhǎng),需要多學(xué)科交叉融合。半導(dǎo)體零部件的研發(fā)設(shè)計(jì)、 制造和應(yīng)用涉及到材料、機(jī)械、物理、電子、精密儀器等跨學(xué)科、多學(xué)科的交叉融合,生 產(chǎn)工藝橫跨精密機(jī)械制造、工程材料、表面處理特種工藝、電子電機(jī)整合及工程設(shè)計(jì)等多 個(gè)領(lǐng)域和學(xué)科。 以半導(dǎo)體制造中用于固定晶圓的靜電吸盤(ESC)為例,傳統(tǒng)的以有機(jī)高分子材料和陽(yáng)極 氧化層為電介質(zhì)的靜電卡盤逐步被陶瓷靜電卡盤逐漸替代,而以氧化鋁陶瓷或氮化鋁陶瓷 為主體材料陶瓷靜電卡盤擁有良好的導(dǎo)熱和耐鹵素等離子氣氛的性能。作為離子注入、刻 蝕等關(guān)鍵制程核心零部件之一,為滿足在高真空等離子體或特氣環(huán)境中起到對(duì)晶圓的夾持 和溫度控制等作用的需要,需加入其他導(dǎo)電物質(zhì)使得 ESC 總體電阻率滿足功能性要求,還 需在較低的燒結(jié)溫度下實(shí)現(xiàn)納米級(jí)陶瓷粉體快速致密化,靜電吸盤表面處理后還要達(dá)到0.01 微米左右的涂層,才能制備出致密性高、晶體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定、體電阻率分布均勻且符合靜 電卡盤使用特性的專用陶瓷材料。因此,ESC 的制造需要對(duì)材料的導(dǎo)熱性,耐磨性及硬度 指標(biāo)非常了解,對(duì)精密機(jī)加工和表面處理技術(shù)要求也很高。由此可見(jiàn),半導(dǎo)體零部件是一 個(gè)多學(xué)科交叉融合、需要復(fù)合型技術(shù)的領(lǐng)域。

半導(dǎo)體零部件技術(shù)突破難度大,行業(yè)壁壘高。目前,應(yīng)用比較廣、市場(chǎng)份額比較大的機(jī)械類零 部件主要產(chǎn)品技術(shù)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)突破,機(jī)電一體類零部件以及氣體/液體/真空系統(tǒng)類零部件也都 已有部分產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破,包括腔體、機(jī)械手、金屬加工件、石英零部件、硅部件、 EFEM、溫控系統(tǒng)等零部件都已有G產(chǎn)供應(yīng)商。然而,機(jī)械類的高端產(chǎn)品技術(shù)突破難度高、 G產(chǎn)化率仍然較低;電氣類零部件技術(shù)難度高,核心模塊(射頻電源等)尚未G產(chǎn)化;儀 器儀表類零部件對(duì)測(cè)量精準(zhǔn)度要求極高,G產(chǎn)化率較低,高端產(chǎn)品尚未G產(chǎn)化;光學(xué)類零 部件對(duì)光學(xué)性能要求極高,G際壟斷程度高,G產(chǎn)化率較低,高端產(chǎn)品亦未G產(chǎn)化。

2. 市場(chǎng)空間大,零部件交期拉長(zhǎng)限制下游擴(kuò)產(chǎn)需求

2.1 全球半導(dǎo)體零部件市場(chǎng)規(guī)模CA 400 億美元

半導(dǎo)體設(shè)備精密零部件是半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的重要支撐,根據(jù)半導(dǎo)體零部件公司富創(chuàng)精密估 計(jì),全球的半導(dǎo)體零部件市場(chǎng)CA過(guò)百億美元規(guī)模。為了較為JQ地測(cè)算全球和中G大陸的 半導(dǎo)體零部件市場(chǎng)規(guī)模,可以按照半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模?成本率?零部件成本占比的公式進(jìn) 行測(cè)算。其中,半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模來(lái)自 SEMI 數(shù)據(jù),成本率(即 1-毛利率)來(lái)自半導(dǎo)體 設(shè)備全球 TOP5 企業(yè)的毛利率按銷售額取加權(quán)平均,零部件成本占比參考光刻設(shè)備、刻蝕設(shè)備和薄膜沉積設(shè)備三個(gè)比較為關(guān)鍵的半導(dǎo)體設(shè)備代表公司,分別為芯源微、中微公司和拓 荊科技。

近NA來(lái),全3.5%。 考慮到光刻設(shè)備、刻蝕設(shè)備和薄膜沉積設(shè)備是晶圓制造中比較重要的三類設(shè)備,分別選用G 內(nèi)代表半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)估算直接材料占比??偟膩?lái)看,半導(dǎo)體設(shè)備的直接材料占比基本在 90%以上。

2.2 半導(dǎo)體零部件短缺限制設(shè)備產(chǎn)能提升

件需求持續(xù)提高。

3. 海外巨頭壟斷市場(chǎng),G產(chǎn)率低

空泵),Advanced Energy(射頻電源),Horiba(MFC),VAT(真空閥件),Ichor(模塊 化氣體輸送系統(tǒng)以及其他組件),Ultra Clean Tech(密封系統(tǒng)),ASML(光學(xué)部件)及 EBARA(干泵)。

根據(jù) VLSI 數(shù)據(jù),全球前十大半導(dǎo)體零部件供應(yīng)商的市場(chǎng)份額總和趨于穩(wěn)定在 50%左右。另 外,由于半導(dǎo)體零部件對(duì)精度和品質(zhì)的嚴(yán)格要求,就單一半導(dǎo)體零部件而言,往往會(huì)出現(xiàn) 僅有幾家供應(yīng)商的JY面,集中度遠(yuǎn)高于 50%。

從細(xì)分品類的零部件來(lái)看,目前在大部分零部件領(lǐng)域,美G、RB等企業(yè)均處于領(lǐng)先地位。 例如在靜電吸盤領(lǐng)域,基本由美G和RB半導(dǎo)體企業(yè)主導(dǎo),根據(jù) QYR 數(shù)據(jù)分析統(tǒng)計(jì),美日 市場(chǎng)份額占 95%以上,主要有美G AMAT(應(yīng)用材料)、美G LAM(泛林集團(tuán)),以及RB 企業(yè) Shinko(新光電氣)、TOTO、NTK 等。 O 型密封圈:是比較普遍認(rèn)可的密封設(shè)計(jì),主要來(lái)自美G半導(dǎo)體企業(yè) Dupont、Greene Tweed,以 Greene Tweed 公司為例,既能提供 AS568 或 ISO 3601-1 標(biāo)準(zhǔn)尺寸的 O 型圈, 也能設(shè)計(jì)和制造非標(biāo)

精密軸承:全球軸承市場(chǎng)被瑞典、德G、RB、美G四本 NACHI)。主要應(yīng)用于半導(dǎo)體領(lǐng)域的 精密軸承代表廠商包括 Fala 和 Kaydon。Kaydon 是瑞典 SKF 旗下子公司,精密軸承設(shè)計(jì)半導(dǎo)體領(lǐng)域,Reali-Slim 軸承可以定制優(yōu)化,可司為例,其生產(chǎn)的電容式 壓力計(jì)具有高度準(zhǔn)確性和可重復(fù)性,幾乎完全使用鎳基合金制造隔膜量規(guī),具有很強(qiáng)的耐 腐蝕性和安全級(jí)別。 石英件:根據(jù)芯謀研究,石英制品中半導(dǎo)體用石英制品約占整體市場(chǎng)的 68%。半導(dǎo)體用石 英件的代表企業(yè)包括韓G Wonik 和RB Ferrotec。 殘余氣體分析儀 RGA:全球市場(chǎng)來(lái)看,美系廠商在殘余氣體分析儀大幅領(lǐng)先,包括 Inficon 和 MKS。據(jù) GIR (Glob

從G產(chǎn)化率來(lái)看,目前半導(dǎo)體零部件處于偏低的水平,石英、反應(yīng)腔噴淋頭、邊緣環(huán)等自 給率大于 10%,各種泵、陶瓷部件自給率在 5%-10%之間,射頻發(fā)生器、機(jī)械手、MFC 等 自給率在 1%-5%之間,閥門、測(cè)量?jī)x器等自給率甚至不到 1%。

3.1 射頻電源:AE 和 MKS 壟斷,英杰電氣實(shí)現(xiàn)突破

美的份額。 半導(dǎo)體業(yè)務(wù)是 MKS 公司的核心業(yè)務(wù),公司的半導(dǎo)體業(yè)務(wù)共有沉積和蝕刻、濕法工藝、計(jì)量 和檢驗(yàn)以及光刻四大模塊,擁有 RF 射頻電源、真空壓力計(jì)、電容壓力計(jì)、流量計(jì)、真空法 蘭和管件、各類閥門和疏水閥、等離子體源、臭氧發(fā)生器等多品類半導(dǎo)體零部件。公司致 力于解決半導(dǎo)體客戶的復(fù)雜問(wèn)題,有著先進(jìn)的半導(dǎo)體零部件制造技術(shù),其生產(chǎn)的 RF 射頻電 源能夠鉆出數(shù)十億個(gè)縱橫比大于 55:1、完全筆直和平行的孔,相當(dāng)于以小于 0.5 英寸的偏 差擊中大于 1 英里外的目標(biāo)。

目前,G內(nèi)亦有廠商如英杰電氣在射頻電源領(lǐng)域有所突破,公司和中微半導(dǎo)體的合作有深 度合作,從 MOCVD 這個(gè)設(shè)備的電源G產(chǎn)替代開(kāi)始.005%,額定輸出時(shí)效率達(dá)到 75%(MKS 的 Elite 系列效率可大于 85%,仍存在一定差距)。公司目前正在進(jìn)一步研發(fā)高端射頻電源以提 升其性能,致力于在半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)G產(chǎn)替代,將采用 FPGA 作為射頻信號(hào)處理,結(jié)合脈 沖功率閉環(huán)控制,運(yùn)用自主跳頻算法控制,響應(yīng)速度達(dá)到 US 級(jí)。目前,公司已實(shí)現(xiàn)其小批 量試制并交客戶測(cè)試。

3.2 機(jī)械類:品類眾多,G產(chǎn)化快速推進(jìn)

機(jī)械類零部件在半導(dǎo)體設(shè)備中起到構(gòu)建整體框架、基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)、晶圓反應(yīng)環(huán)境和實(shí)現(xiàn)零部件 特殊功能的作用,保證反應(yīng)良率,延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命的作用,主要包括金屬工藝件(主要 有反應(yīng)腔、傳輸腔、過(guò)渡腔、內(nèi)襯、勻氣盤等)、金屬結(jié)構(gòu)件(主要有托盤、冷卻板、底座、鑄鋼平TA-I等)以及非金屬機(jī)械件(主要有石英、陶瓷件、硅部件、靜電卡盤、橡膠密封件 等)。

從競(jìng)爭(zhēng)格JY來(lái)看,半導(dǎo)體機(jī)械零部件的全球龍頭包括 Ferrotec、京鼎精密等半導(dǎo)體廠商。 其中

NA,其陶瓷、石英、硅及碳化硅等非金屬密零部件業(yè)務(wù)規(guī)模較大。

備和醫(yī)療設(shè)備等業(yè)務(wù)。京鼎 精密是半導(dǎo)體機(jī)械零部件的重要廠商,在中G大陸地區(qū)設(shè)有富士邁半導(dǎo)體精密工業(yè)(SH) 有限公司,從事精密零部件的研發(fā)及生產(chǎn)。

目前,G內(nèi)生產(chǎn)半導(dǎo)體機(jī)械零部件的廠商主要有新萊應(yīng)材、江豐電子和富創(chuàng)精密。新萊應(yīng) 材在半導(dǎo)體用高純潔凈材料進(jìn)行布JY,可生產(chǎn)包括管道、管件和接頭等機(jī)械配件,深度布 JY半導(dǎo)體配件G產(chǎn)化。江豐電子在 PVD、CVD、刻蝕機(jī)等半導(dǎo)體設(shè)備用零部件進(jìn)行布JY, 包括壓環(huán)、準(zhǔn)直器氣體噴淋頭等零部件,已在部分G內(nèi)廠商實(shí)現(xiàn)G產(chǎn)替代并批量供貨。富 創(chuàng)精密則主要在金屬材料精密零部件布JY,包括反應(yīng)腔、傳輸腔、過(guò)渡腔、內(nèi)襯、勻氣盤 等金屬工藝件和托盤、冷卻板、底座、鑄鋼平TA-I等金屬結(jié)構(gòu)件,目前公司已進(jìn)入多家主流 G產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備廠商供貨商M單。

3.3 真空泵: Edwards 以及 Ebara 占據(jù)主要份額,漢鐘精機(jī)、中科儀實(shí)現(xiàn)突破

真空泵是真空獲得設(shè)備中的主要種類,用于獲得、改善以及維持真空環(huán)境。真空泵之于半 導(dǎo)體設(shè)備意義重大:半導(dǎo)體器件不同材料層之間混入氣體分子會(huì)破壞器件的電學(xué)或光學(xué)性 能,故而真空系統(tǒng)對(duì)芯片的性能和良率直接造成影響。半導(dǎo)體真空泵可廣泛應(yīng)用于晶圓制 造過(guò)程中的單晶拉晶、LoadLock、刻蝕、CVD、ALD、封裝、測(cè)試等清潔或嚴(yán)苛制程。

目前,全球半導(dǎo)體真空泵市場(chǎng)由G際廠商主導(dǎo),海外廠商占據(jù)了CA過(guò) 90%的市場(chǎng)份額。全 球真空泵的主要廠商包括龍頭 Edwards(瑞典 Atlas 子公司)、Ebara(RB)、Pfeiffer Vacuum(德G)、Kashiyama(RB)等海外公司,G內(nèi)廠商份額不足 5%,有著較大的G 產(chǎn)替代空間。根據(jù) ISVT 計(jì)占據(jù)了 CA過(guò) 80%的市場(chǎng)。

G內(nèi)半導(dǎo)體真空泵的主要廠商是漢鐘精機(jī)和中科儀,其中漢鐘精機(jī)主要采用螺桿干式真空 泵,擁有 PMF、iPM、iPH 系列干式真空泵產(chǎn)品。公司經(jīng)過(guò)多NA發(fā)展和積累,在螺桿、渦旋、 離心等不同領(lǐng)域已擁有自己雄厚的技術(shù)實(shí)力,不斷加強(qiáng)研發(fā)投入和技術(shù)創(chuàng)新,取得了行業(yè) 內(nèi)領(lǐng)先的技術(shù)研發(fā)優(yōu)勢(shì)。漢鐘精機(jī)的產(chǎn)品為螺桿干式真空泵,在高嚴(yán)苛、粉塵多的制程中 更有優(yōu)勢(shì),而爪式真空泵排氣道出氣距離長(zhǎng),容易造成電機(jī)負(fù)載過(guò)高。未來(lái)隨著半導(dǎo)體制 程越來(lái)越嚴(yán)苛,螺桿真空泵的優(yōu)勢(shì)將逐步體現(xiàn)。目前,漢鐘精機(jī)與G內(nèi)部分機(jī)TA-I商、晶圓 廠都已有合作,并有一定的小批量出貨。同時(shí),公司產(chǎn)能正在不斷釋放。公司 8 月

3.4 閥門: 海外巨頭壟斷,新萊應(yīng)材份額快速提高

半導(dǎo)體閥門是由帶有輔助設(shè)備的半導(dǎo)體器件組成的閥,主要是在流體系統(tǒng)中,用來(lái)控制流 體的方向、壓力、流量的裝置。半導(dǎo)體制造是制造用于電子設(shè)備和電氣設(shè)備的集成電路的 過(guò)程,這些過(guò)程中需要許多閥門和配件的解決方案。目前,半導(dǎo)體閥門主要可分為隔膜閥mventile、Parker、Fujikin、CKD、Swagelok、 MKS、SMC Corporation、GEMü、Entegris 等。根據(jù) Market Research Reports

VAT:瑞士 VAT 公司是是全球領(lǐng)先的高性能真空閥、多閥單元、真空模塊和邊緣焊接金屬 波紋管的KF商和制造商,主產(chǎn) 業(yè)、半導(dǎo)體及相關(guān)產(chǎn)業(yè)、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的真空閥市場(chǎng)份額分別達(dá)到 58%、65%、75%,七NA 來(lái)份額不斷提升,是當(dāng)之無(wú)愧的真空閥行業(yè)領(lǐng)軍者。

Parker(派克漢尼汾)是 VAT 之后的美G半導(dǎo)體閥件領(lǐng)域n(富士金)是制造流體和氣體自動(dòng)控制設(shè)備、專用控制單元以 及CA高純度閥門和配件的半導(dǎo)體零部件廠商,擁有 MEGA 系列、標(biāo)準(zhǔn)系列、雙流量閥和電 控閥等閥門產(chǎn)品,能夠生產(chǎn)成品低于 5Ra 的閥門,從而在很大程度上減少半導(dǎo)體制造過(guò)程 中的殺傷性顆粒。

目前,G內(nèi)生產(chǎn)半導(dǎo)體閥門的企業(yè)主要包括新萊應(yīng)材和晶盛機(jī)電。新萊應(yīng)材在半導(dǎo)體閥門 已經(jīng)能實(shí)現(xiàn)對(duì)海外零部件的替代,下游客戶包括G內(nèi)外知M的半導(dǎo)體設(shè)備廠商,并與合資成立的紹興普萊美特真空部件有限公司跨G合作的優(yōu)異 批G產(chǎn)半導(dǎo)體真空閥門產(chǎn)品上市。4 月份,該公司可批 6 款真空隔膜閥通過(guò)客戶認(rèn)證并實(shí)現(xiàn) 量產(chǎn),為打造半導(dǎo)體核心精密真空閥門部件G產(chǎn)化基地邁出重要一步。

4.相關(guān)公司

4.1. 新萊應(yīng)材:G內(nèi)半導(dǎo)體高純潔凈材料龍頭,腔體、管道、閥門技術(shù)領(lǐng)先

內(nèi)優(yōu)異家在創(chuàng)業(yè)板上市的TA-I資企業(yè)。公司一直專注于CA高潔凈應(yīng)用材料的研究、 制造與銷售,產(chǎn)品領(lǐng)域包括半導(dǎo)體、光電、光伏、生物醫(yī)藥、精細(xì)化工、食品飲料等行業(yè)。 在泛半導(dǎo)體領(lǐng)域,公司產(chǎn)品可以覆蓋半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)除設(shè)計(jì)之外的全制程,并通過(guò)了美G排M 前二的半導(dǎo)體應(yīng)用設(shè)備廠商的認(rèn)證并成為其一級(jí)供應(yīng)商,填補(bǔ)了G內(nèi)CA高純應(yīng)用材料的空 白。 在穩(wěn)定CA高純應(yīng)用材料產(chǎn)品品質(zhì)的同時(shí),公司仍在不斷研發(fā)創(chuàng)新,覆蓋于半導(dǎo)體制程設(shè)備 和廠務(wù)端所需的真空系統(tǒng)和氣體管路系統(tǒng)。公司與廣大區(qū)域高級(jí)半導(dǎo)體制造設(shè)備企業(yè) AMAT 加 大半導(dǎo)體產(chǎn)品的合作,中G領(lǐng)先的存儲(chǔ)器芯片設(shè)計(jì)與制造公司長(zhǎng)江存儲(chǔ)、合肥長(zhǎng)鑫等在高 端真空閥門等產(chǎn)品方面也有深入合作,氣體管道及氣體控制元件也在深入G產(chǎn)替代化,與 中GG內(nèi)比較大的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商北方華創(chuàng)在半導(dǎo)體領(lǐng)域展開(kāi)全面合作。

在泛半導(dǎo)體業(yè)務(wù),公司主要提供半導(dǎo)體用高純潔凈材料,包括管道/管件、配件、隔膜閥、 減壓閥幾大類產(chǎn)品,主要應(yīng)用于設(shè)備端及廠務(wù)端。公司的高純及CA高純應(yīng)用材料可以滿足 潔凈氣體、特殊氣體和計(jì)量精度等特殊工藝的要求,同時(shí)也可以滿足泛半導(dǎo)體工藝過(guò)程中 對(duì)真空度和潔凈度的要求。公司經(jīng)過(guò)二十余NA的不懈努力,成為G內(nèi)同行業(yè)中擁有潔凈應(yīng) 用材料和高純及CA高純應(yīng)用材料完整技術(shù)體系的廠商之一。半導(dǎo)體高純潔凈材料技術(shù)壁壘 高,其中半導(dǎo)體制程所用的氣體產(chǎn)品需要很強(qiáng)的腐蝕性,產(chǎn)品的表面耐腐蝕電解拋光(EP) 處理要求極高;半導(dǎo)體真空產(chǎn)品要達(dá)到CA高真空 10-9Pa 要求,對(duì)應(yīng)產(chǎn)品焊接技術(shù)要求高。 目前市場(chǎng)絕大部分被歐美日韓等外企占據(jù),公司十多NA的G際半導(dǎo)體CA高純應(yīng)用材料廠商 的代工經(jīng)驗(yàn),電解拋光和焊接技術(shù)通過(guò)應(yīng)用材料認(rèn)證。

根據(jù)公司投資者調(diào)研紀(jì)要內(nèi)容顯示,公司半導(dǎo)體產(chǎn)品使用量約占芯片廠總投入 3%-5%左右, 約占在半導(dǎo)體設(shè)備廠,原材料采購(gòu)額的 5%-10%,市場(chǎng)空間CA過(guò) 500 億人民幣。從營(yíng)收結(jié) 構(gòu)來(lái)看

受益于半導(dǎo)體G產(chǎn)化趨勢(shì)以及G內(nèi)疫苗及醫(yī)藥生產(chǎn)廠商快速擴(kuò)產(chǎn),公司半導(dǎo)體板塊業(yè)務(wù)快 速增中,公司半導(dǎo)體業(yè)務(wù)營(yíng)收 3.17 億元,毛利率提高至 35%,同比+2pct,主要 原因?yàn)橛唵物枬M、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)優(yōu)化升級(jí)以及規(guī)模效應(yīng)持續(xù)凸顯。

4.2. 萬(wàn)業(yè)企業(yè):收購(gòu) Compart Systems 布JY零部件,氣體輸送系統(tǒng)領(lǐng)域全球 領(lǐng)先

域 供應(yīng)商之一,Compart Systems 長(zhǎng)期為多家海外龍頭半導(dǎo)體設(shè)備廠提供穩(wěn)定供應(yīng),主要產(chǎn) 品包括 BTP(Built To Print)組件、裝配件、密封件、氣棒總成、氣體流量控制器(MFC)、 焊接件等,主要用于集成電路制造工藝中氧化/擴(kuò)散、蝕刻和沉積等設(shè)備所需的JQ氣體輸 送系統(tǒng),是全球少數(shù)可完成該領(lǐng)域零組件精密加工全部環(huán)節(jié)的公司。

從營(yíng)收結(jié)構(gòu)來(lái)看,公司目前主要業(yè)務(wù)仍為房地產(chǎn)業(yè)務(wù),但得

由于正處于

4.3. 江豐電子:G內(nèi)靶材龍頭,布JY半導(dǎo)體零部件打開(kāi)成長(zhǎng)空間

NA 6 月在深交所創(chuàng)業(yè)板上市,是一家專業(yè)從事 CA大規(guī)模集成電路制造用CA高純金屬材料及濺射靶材研發(fā)生產(chǎn)的企業(yè)。在CA大規(guī)模集成電 路用高純金屬靶材領(lǐng)域,公司的產(chǎn)品包括鋁靶、鈦靶、鉭靶、銅靶以及各種CA高純金屬合 金靶材,成功打破美G、RB跨G公司的壟斷格JY,填補(bǔ)了G內(nèi)電子材料行業(yè)的一項(xiàng)。公 司在半導(dǎo)體精密零部件領(lǐng)域也有布JY,主要用于半導(dǎo)體芯片以及液晶面板SCX的機(jī)TA-I, 覆蓋了包括 PVD、CVD、刻蝕、離子注入以及產(chǎn)業(yè)機(jī)器人等應(yīng)用領(lǐng)域,順應(yīng)中G半導(dǎo)體行 業(yè)智造裝備G產(chǎn)化的趨勢(shì)。 近NA來(lái),公司持續(xù)投入零部件制造工藝的研發(fā),投資強(qiáng)化裝備能力,建成了零部件生產(chǎn)的 全工藝、全流程生產(chǎn)體系,建成了寧波余姚、SH奉賢、沈陽(yáng)沈北三個(gè)零部件生產(chǎn)基地, 實(shí)現(xiàn)了多品種、大批量、高品質(zhì)的零部件量產(chǎn)。公司新KF的各種精密零部件產(chǎn)品已經(jīng)廣 泛用于 PVD、CVD、刻蝕機(jī)等半導(dǎo)體設(shè)備,其中 PVD 機(jī)TA-I用零部件包括壓環(huán)(Clamp Ring)、準(zhǔn)直器(Collimator)等,CVD 機(jī)TA-I用零部件包括 CVD 氣體噴淋頭(shower head) 等,CMP 機(jī)TA-I用零部件及耗材包括 300mm 拋光墊、保持環(huán)等。目前,公司生產(chǎn)的多品類 零部件已在多家芯片制造企業(yè)實(shí)現(xiàn)G產(chǎn)替代,與G內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備龍頭北方華創(chuàng)、拓荊科技、 芯源微、SH盛美、SH微電子、屹唐科技等多家廠商形成戰(zhàn)略合作新KF的各種半導(dǎo)體 精密零部件產(chǎn)品加速放量并實(shí)現(xiàn)批量交貨。

49.58%。

4.4. 富創(chuàng)精密:專注金屬零部件,打造平TA-I型公司

檢測(cè)等一站式制造工藝,科創(chuàng)板 IPO 注冊(cè)已經(jīng)成功,上市在即。目前,公司是全球?yàn)閿?shù)不多的能夠量產(chǎn)應(yīng)用于 7 納米工藝 制程半導(dǎo)體設(shè)備的精密零部件制造商,已進(jìn)入G際大客戶 A、東京電子、HITACHI、HighTech 和 ASMI 等全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭廠商供應(yīng)鏈體系,還是客戶 A 的全球戰(zhàn)略供應(yīng)商。同 時(shí),公司順應(yīng)半導(dǎo)體設(shè)備G產(chǎn)化趨勢(shì),積極開(kāi)拓境內(nèi)市場(chǎng),產(chǎn)品已進(jìn)入包括北方華創(chuàng)、屹 唐股份、中微公司、拓荊科技、華海清科、芯源微、中科信裝備、凱世通等主流G產(chǎn)半導(dǎo) 體設(shè)備廠商,保障了我G半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈安全。 公司的產(chǎn)品為半導(dǎo)體設(shè)備、泛半導(dǎo)體設(shè)備及其他領(lǐng)域的精密零部件,具體包括工藝零部件、 結(jié)構(gòu)零部件、模組產(chǎn)品和氣體管路,產(chǎn)品的高精密、高潔凈、高耐腐蝕、耐擊穿電壓等性 能達(dá)到G際水平。通過(guò)此次股票發(fā)行,公司將利用募集資金投資 10 億于集成電路裝備零部 件全工藝智能制造生產(chǎn)基地,另外 6 億用于補(bǔ)充流動(dòng)資金。屆時(shí),公司將搭建智能信息化 管理平TA-I,擴(kuò)大現(xiàn)有產(chǎn)品產(chǎn)能,提高產(chǎn)品科技含量和生產(chǎn)信息化水平,進(jìn)一步滿足下游市 場(chǎng)需求,同時(shí)有助于公司拓寬產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域,提升產(chǎn)品供貨能力。

從營(yíng)收結(jié)構(gòu)看,公司的8%,模組產(chǎn)品毛利率從 6.15%上升到 22.19%,氣體管路毛利率從0.34%上升到 33.85%。

在行業(yè)景氣度回升及半導(dǎo)體設(shè)備G產(chǎn)化趨勢(shì)下,公司的工藝技術(shù)、行業(yè)口碑、產(chǎn)品質(zhì)量和 交付能力不斷得到品供不應(yīng)求,隨著產(chǎn)能持續(xù)提升,公司業(yè)績(jī)進(jìn)一步釋放;(2)公司產(chǎn)能緊 張,聚焦高附加值產(chǎn)品訂單,綜合毛利率同比提升。同時(shí)隨著經(jīng)營(yíng)規(guī)模擴(kuò)大,規(guī)模效應(yīng)凸 顯,期間費(fèi)用同比增幅遠(yuǎn)低于收入,導(dǎo)致凈利潤(rùn)同比增幅高于收入。

4.5. 漢鐘精機(jī):光伏真空泵龍頭,拓展半導(dǎo)體業(yè)務(wù)打開(kāi)G產(chǎn)替代空間

龍頭企業(yè)。公司是TA-I資企業(yè),早期發(fā)展真空泵業(yè)務(wù)時(shí),技術(shù) 主要源于中GTA-I灣漢鐘精機(jī)。公司的傳統(tǒng)業(yè)務(wù)是壓縮機(jī),真空泵業(yè)務(wù)營(yíng)收近NA飛速增長(zhǎng), 同時(shí)布JY光伏和半導(dǎo)體兩大賽道。在太陽(yáng)能光伏領(lǐng)域,真空泵已經(jīng)實(shí)現(xiàn)G產(chǎn)化,主要應(yīng)用 于拉晶及電池片制程,公司產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)大批量供貨及長(zhǎng)時(shí)間可靠運(yùn)行,主要客戶包括隆基股 份、晶盛機(jī)電、捷佳偉創(chuàng)等光伏企業(yè),以優(yōu)異的性價(jià)比贏得了較大的市場(chǎng)份額。在半導(dǎo)體 領(lǐng)域,真空泵市場(chǎng)仍由外G廠Pfeiffer 占據(jù)了 12.74%市場(chǎng)份額,G內(nèi)廠商市場(chǎng)份額不足 5%,存在著廣闊的G產(chǎn)替代空間。

YoY+59.71%)、0.58 億(YoY+50.77%)、1.76 億(YoY+34.89%),占公司整體收入比 例分別為 56.93%、34.98%、1.94%、6.15%。從分業(yè)務(wù)毛利率看,公

4.6. 華卓精科:G內(nèi)半導(dǎo)體精密運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)龍頭

為集成電路制造裝備及關(guān)鍵零部件的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化,產(chǎn) 品包括CA精密運(yùn)動(dòng)平TA-I、激光退火設(shè)備、晶圓鍵合設(shè)備、晶圓傳輸系統(tǒng)、主被動(dòng)隔振器、 靜電卡盤、精密測(cè)量系統(tǒng)等整機(jī)設(shè)備及半導(dǎo)體關(guān)鍵零部件,主要應(yīng)用于集成電路芯片制造、 先進(jìn)封裝、功率器件制造等產(chǎn)線,并在電子制造、激光加工等高端技術(shù)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)廣泛應(yīng)用。 目前公司正在申請(qǐng) IPO。華卓精科與清華大學(xué)有緊密合作,公司實(shí)際控制人為朱煜,兼任 清華大學(xué)機(jī)械工程系長(zhǎng)聘件,包括靜電卡盤和隔振器。靜電卡盤是一種適用于真空環(huán)境下的CA潔凈晶圓片吸附裝置, 利用靜電吸附原理進(jìn)行CA薄晶圓片的平整均勻夾持,在集成電路制造中是 PVD 設(shè)備、刻蝕 機(jī)、離子注入機(jī)等高端裝備的核心部件,目前公司KF出 12 吋 PVD 氮化鋁靜電卡盤,在 一定程度上破除了G外廠商在該產(chǎn)品領(lǐng)域內(nèi)的長(zhǎng)期壟斷JY面隔振器是連接設(shè)備和安裝基座 的彈性和阻尼元件,主要用以減少和消除由設(shè)備傳遞到安裝基座的振動(dòng)或由安裝基座傳遞 到設(shè)備的振動(dòng),公司自主研發(fā)的被動(dòng)型隔振產(chǎn)品結(jié)構(gòu)緊湊、起始隔振頻率低和振動(dòng)衰減率 高。

從營(yíng)收結(jié)構(gòu)看,公司的核心業(yè)務(wù)為精密運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)及技術(shù)KF、納米精度運(yùn)動(dòng)及測(cè)控系統(tǒng)技 術(shù)KF、激光退火設(shè)下降主要系公司管理費(fèi)用、貸款利息、計(jì)提預(yù)計(jì)信用損失大幅增 加所致。

4.7. 正帆科技:G內(nèi)領(lǐng)先的工藝介質(zhì)系統(tǒng)供應(yīng)商,加碼電子特氣、半導(dǎo)體零部 件

于為泛半導(dǎo)體、光纖通信、醫(yī)藥制 造等行業(yè)客戶提供工藝介質(zhì)和工藝環(huán)境綜合解決方案的高新技術(shù)企業(yè)。其主營(yíng)業(yè)務(wù)包括氣 體化學(xué)品供應(yīng)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、安裝及配TA-O服務(wù);高純特種氣體的生產(chǎn)、銷售以及潔凈 廠房配TA-O系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、施工。公司持續(xù)投入生產(chǎn)研究,在泛半導(dǎo)體、光纖通信、醫(yī)藥制造 等領(lǐng)域積累了豐富的客戶資源,其中包括中芯G際、京東方、三安光電、亨通光電、恒瑞 醫(yī)藥等G內(nèi)知M客戶以及 SK 海力士、德州儀器等G際PP客戶。近NA來(lái)逐步在高純特種氣 體業(yè)務(wù)方面逐漸站穩(wěn)腳跟,實(shí)現(xiàn)了砷烷、硅烷等產(chǎn)品的批量銷售,成功打入大陸領(lǐng)先的中 芯G際 14 納米制程 Fab 廠的供應(yīng)鏈體系,并為其提供特氣、大宗氣體相關(guān)設(shè)備及系統(tǒng)服務(wù)。 公司圍繞客戶的需求,布JY半導(dǎo)體零部件領(lǐng)域,主要產(chǎn)品為半導(dǎo)體工藝設(shè)備的流體輸送系 統(tǒng)/設(shè)備(Gas Box)。GAS BOX 是在制造環(huán)節(jié),將各路工藝高純氣體、液體集成在一個(gè)空 間環(huán)境內(nèi),并按工藝需求對(duì)不同氣體進(jìn)行傳輸、分配和混合的氣路裝置。對(duì)安全氣密性、 耐蝕性和精密性有著較高的要求,故具有較高的技術(shù)門檻和行業(yè)壁壘。公司 GAS BOX 產(chǎn) 品客戶多數(shù)為泛半導(dǎo)體設(shè)備制造商,目前產(chǎn)品多數(shù)運(yùn)用于光伏行業(yè),并在進(jìn)行 IC 行業(yè)設(shè)備 的設(shè)備認(rèn)證。子公司鴻舸半導(dǎo)體專注于為半導(dǎo)體主設(shè)備提供關(guān)鍵零部件模塊業(yè)務(wù),促進(jìn)G 產(chǎn)化替代進(jìn)程。

從營(yíng)收結(jié)構(gòu)看,公司的主要業(yè)務(wù)包括高端電子工藝設(shè)備、工藝介質(zhì)供應(yīng)系比提升 11.74pct。

由于近兩NA半導(dǎo)體及光伏行業(yè)景氣度持續(xù)爬升,公司在泛半導(dǎo)體工藝設(shè)備模塊與組件不斷 攻克技術(shù)難題、設(shè)備產(chǎn)品不斷獲得新訂單并通過(guò)驗(yàn)證,拓展市場(chǎng)份額,打造業(yè)務(wù)增長(zhǎng)新曲 線。公司營(yíng)收和.70%,實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤(rùn) 0.53 億元,同比下降 2.48%,歸母扣非凈利潤(rùn) 0.45 億元,同比 下降 9.54%,。公司歸母凈利潤(rùn)與扣非歸母同比均有所下降,主要由本期期權(quán)激勵(lì)造成的股 份支付費(fèi)用的影響所致。

4.8. 至純科技:半導(dǎo)體清洗設(shè)備快速成長(zhǎng),布JY半導(dǎo)體設(shè)備零部件助力G產(chǎn)化

體行業(yè)為核心,包括括高純工藝系統(tǒng)、半導(dǎo)體濕法清洗設(shè)備、光傳感 應(yīng)用及相關(guān)光學(xué)元器件的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物醫(yī)藥、 光伏、光纖、TFT-LCD、LED 等領(lǐng)域。據(jù)公司披露,部件以JK為主。公司從高階單片濕法工藝模 塊、高純工藝零部件領(lǐng)域切入,旨在研發(fā)先進(jìn)制程工藝的半導(dǎo)體高階濕法工藝模塊、單片 式腔體、高純度閥,旨在進(jìn)一步鞏固公司半導(dǎo)體濕法清洗設(shè)備行業(yè)領(lǐng)先地位,增強(qiáng)公司在寬深比條件下的濕法工藝模塊研發(fā)能力,實(shí)現(xiàn)整機(jī)產(chǎn)品在 14nm 及 以下的邏輯芯片及 1Xnm 存儲(chǔ)芯片、以及特殊工藝的制造應(yīng)用。加快實(shí)現(xiàn)公司半導(dǎo)體核心 零部件的JK替代,提高自主研發(fā)水平,將成為后續(xù)發(fā)展重點(diǎn)。

率 32.48%,高純工藝系統(tǒng)毛利率 34.71%,同比分別提升 2.94pct、2.63pct。

受益泛半導(dǎo)體行業(yè)大規(guī)模擴(kuò)產(chǎn)以及清洗設(shè)備放量,半導(dǎo)體板塊業(yè)務(wù)持續(xù)高速增長(zhǎng),公司營(yíng) 收和盈利幾NA來(lái)均實(shí)現(xiàn)持元,同比增長(zhǎng) 21.67%,實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤(rùn) 0.81 億元,同比下降 45.92%。公司歸母 凈利潤(rùn)的下降主要是由于上NA度公司收到的包括政府補(bǔ)助及公允價(jià)值調(diào)整較本期金額較大 所致。

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半導(dǎo)體行業(yè)研究:設(shè)備G產(chǎn)化關(guān)鍵環(huán)節(jié),半導(dǎo)體零部件藍(lán)海啟航半導(dǎo)體設(shè)備G產(chǎn)化專題催化燃燒設(shè)備半導(dǎo)體,真空環(huán)境,制程工藝,產(chǎn)品研發(fā),晶圓,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)廠家,型號(hào)齊全,價(jià)格合理,批發(fā)定做,圖片說(shuō)明。

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