壓鑄煉鐵廠(chǎng)尾氣處置電子設(shè)備技術(shù)特征：

可根據(jù)相同工藝段尾氣的特征，設(shè)計(jì)選用相同的強(qiáng)針對(duì)性的工藝技術(shù)；復(fù)合式工藝極大的提升了尾氣治理工作效率。

高溫激重氮反應(yīng)的其本質(zhì)是借助電場(chǎng)中的高能量電子炮擊氮氧化物大分子，使之共價(jià)鍵斷裂，逐步形成特異性粒子后再與其他雙鍵重新排列逐步形成更平衡的無(wú)污染化學(xué)物質(zhì)的操作過(guò)程。

重氮化學(xué)反應(yīng)的其本質(zhì)是借助武藝高光線(xiàn)場(chǎng)紫外光，污染化學(xué)物質(zhì)吸收正電子的能量出現(xiàn)正電子，使其處于極不平衡的基態(tài)，然后再與催化劑造成的特異性雙鍵化學(xué)反應(yīng)，生成無(wú)污染化學(xué)物質(zhì)的操作過(guò)程。

重氮能大大推動(dòng)高溫激光的化學(xué)反應(yīng)效果與速度，同時(shí)，高溫激光中電場(chǎng)中的特異性離子和陰離子也能推動(dòng)重氮化學(xué)反應(yīng)的快速、有效的進(jìn)行，二者相互推動(dòng)，相得益彰。

兩個(gè)Rampur的相互作用，使化學(xué)反應(yīng)工作效率提升了10至100倍，同時(shí)大大增加了項(xiàng)目產(chǎn)品的耗電。

具有以下特征： 工藝控制系統(tǒng)的處置工作效率很高，并且很平衡； 初期投資服務(wù)費(fèi)不高，運(yùn)行服務(wù)費(fèi)低，維護(hù)保養(yǎng)簡(jiǎn)單， 工藝控制系統(tǒng)容易操作，占地小，且科折粉工藝處置后無(wú)滲漏。

壓鑄煉鐵廠(chǎng)尾氣處置電子設(shè)備工藝流程說(shuō)明：

（1）氣溶膠歷經(jīng)管線(xiàn)收集，在步入氣溶膠治理電子設(shè)備之前先歷經(jīng)管線(xiàn)冷卻系統(tǒng)粗濾，防止大臭氧步入處置電子設(shè)備，給電子設(shè)備造成影響。

（2）氣溶膠粗濾后步入預(yù)處置組件，預(yù)處置組件選用煙氣分離板構(gòu)造，將氣溶膠中參雜的石蠟、粉塵除去。

（3）歷經(jīng)預(yù)處置組件除煙氣后，氣溶膠步入電子設(shè)備的核心處置區(qū)域----激光再生區(qū)，激光再生選用注入式激光出現(xiàn)器。外界自然風(fēng)經(jīng)高溫激光出現(xiàn)器，得到激光體送入激光再生區(qū)。在激光再生區(qū)，大部分氣溶膠大分子被激光體炮擊、水解后變成無(wú)污染、淡黃色和乳白色的氣體。

（4）參雜著部分高溫激光體的氣溶膠到達(dá)重氮組件。武藝高強(qiáng)紫外光場(chǎng)對(duì)氣溶膠成分有破壞作用并造成活潑的病害還原劑；氣溶膠成分在還原劑和光的協(xié)同作用下持續(xù)出現(xiàn)水解分解，終身成二水解碳和水。

（5）NVIDIA再生組件設(shè)有順流而下循環(huán)式除塵控制系統(tǒng)、錯(cuò)流循環(huán)式除塵控制系統(tǒng)、引力下陷、對(duì)撞除塵、氣流均布器，可以除去細(xì)微粉塵，滿(mǎn)足排放標(biāo)準(zhǔn)。